V&M investe US$ 3 mi no Parque Tecnológico da UFRJ

A companhia V&M do Brasil vai integrar o Parque Tecnológico da UFRJ (Universidade Federal do Rio de Janeiro), na Ilha do Fundão

A companhia V&M do Brasil vai integrar o Parque Tecnológico da UFRJ (Universidade Federal do Rio de Janeiro), na Ilha do Fundão. A companhia anunciará o investimento de US$ 3 milhões na unidade oficialmente em cerimônia no local na próxima sexta-feira. Segundo a assessoria do Parque Tecnológico, a empresa terá como foco a realização de pesquisas sobre o pré-sal, além da criação de projetos voltados para o desenvolvimento do uso de tubos e produtos tubulares com fins estrutu–rais, automobilísticos, de transportes e robótica.
A companhia vai ocupar o espaço conhecido como a Ilha do Petróleo, onde está localizado o Parque Tecnológico. A área desenvolve pesquisas em petróleo, gás e energia, voltado para os desafios do pré-sal. A própria assessoria do Parque costuma comparar a área com o Vale do Silício, na Califórnia, e o peso que a região teve na área de informática.
Segundo Marcelo Ferreira, superintendente de pesquisa e desenvolvimento da V & M do Brasil, a presença da empresa na Ilha do Petróleo será uma ótima oportunidade de cooperação científico-tecnológica junto à universidade. “Vamos estreitar e dinamizar nossa interação com a comunidade científica nacional. Além disso, participaremos efetivamente do desenvolvimento tecnológico do país frente aos desafios do pré-sal e, principalmente, contribuiremos para a formação de recursos humanos”, diz.
Ele acrescenta que, no espaço, também serão realizadas outras atividades como capacitação profissional e treinamentos, por meio da interação de grupos de pesquisa da UFRJ, visando a inserção dos estudantes de pós-graduação no desenvolvimento de pesquisas de interesse mútuo. “Também consideramos o apoio a bolsas de mestrado e doutorado junto ao Instituto Alberto Luiz Coimbra de Pós-Graduação e Pesquisa de Engenharia (COPPE) em temas específicos, bem como apoio às equipes envolvidas na participação em eventos nacionais e internacionais e publicações técnicas e científicas diversas”, explica.

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